| | | Geschrieben am 07-06-2011 KLA-Tencor(TM) gibt die Auslieferung der ersten LMS IPRO5 bekannt Masken-Messsystem der nächsten Generation
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 Milpitas, Kalifornien (ots/PRNewswire) -
 
 - Beschleunigung fortgeschrittener Maskenentwicklung und
 -fertigung
 
 Heute hat KLA-Tencor Corporation(TM)  die Auslieferung des ersten
 LMS IPRO5 Messsystems für Maskenstrukturen bekannt gegeben. Der
 Empfänger, das Advanced Mask Technology Center (AMTC) in Dresden,
 wird das Messsystem für die Entwicklung seiner fortgeschrittenen
 Maskentechnologie einsetzen, welches zur Qualifizierung der
 Strukturlagegenauigkeit kritischer Schichten in integrierten
 Schaltkreisen der nächsten Generation dient.
 
 Die Entwicklung der LMS IPRO5 wurde in einem Verbundprojekt vom
 Bundesministerium für Bildung und Forschung im Rahmen des Projekts
 CDuR32, "Critical Dimension und Registration für die 32nm
 Maskenlithographie" finanziell unterstützt. Ziel des Projekts CDuR32
 ist es, der Region Dresden, dem führenden Elektronikstandort in
 Europa, einen Vorsprung in der Entwicklung und Fertigung moderner
 Masken zu verschaffen. CDuR32 entspricht auch den Zielen des European
 Nanoelectronics Initiative Advisory Council (ENIAC) (Initiative des
 Europäischen Rates zur Etablierung eines gemeinschaftlichen
 Unternehmens im Bereich Nanotechnologie) zum Ausbau der Position des
 europäischen Marktes in der Nanotechnologie. Der Zugang zu dieser
 Spitzen-Messtechnik ist massgeblich, wenn es darum geht, dass die
 Maskenspezifikationen die engen Toleranzen in Grösse und Position für
 die Herstellung von Chips der nächsten Generation einhalten.
 
 Die Physikalisch-Technische Bundesanstalt (PTB) hat wesentlich zu
 dem Projekt beigetragen. Sie entwickelte eine Referenzmesstechnik für
 LMS IPRO5, um die Längen- und Geradheitsmessungen zu validieren und
 die Kalibrierung des Geräts zu ermöglichen. Wissenschaftler der PTB
 erforschten darüber hinaus mittels grundlegender experimenteller und
 theoretischer Arbeiten die Anwendbarkeit der Scatterometrie sowie der
 Elektronen- und Rastersondenmikroskopie in der Maskenmesstechnik.
 
 Zu Beginn des Projekts war die LMS IPRO Produktgruppe Teil der
 Geschäftseinheit Microelectronic Inspection Equipment (MIE) der
 Vistec Semiconductor Systems GmbH. Im September 2008 wurde die
 MIE-Geschäftseinheit von KLA-Tencor übernommen. Die Entwicklung und
 Fertigung der branchenführenden LMS IPRO Produktlinie bleibt auf
 deutschem Boden und zwar in Weilburg. Das zukunftsorientierte LMS
 IPRO5 unterstützt die Einhaltung der strengen Präzisionsanforderungen
 und Normen zur Qualifizierung der Strukturlagegenauigkeit der Masken
 für die modernen Lithographietechniken und 3Xnm bis 2Xnm Chips.
 
 Über KLA-Tencor:
 
 Die KLA-Tencor Corporation , weltweit führender Anbieter von
 Prozesskontroll- und Ertragsmanagementlösungen für die
 Halbleiterindustrie und zugehörige Branchen, arbeitet mit Kunden aus
 aller Welt zur Entwicklung von modernsten Inspektions- und
 Messgeräten zusammen. Diese Technologien werden für Halbeiter,
 Datenspeicherung, LED, Photovoltaikanlagen und ähnliche Branchen im
 Bereich Nanoelektrotechnik verwendet. Mit seinem Portfolio an
 Industriestandard-Produkten und seinem Team aus erstklassigen
 Ingenieuren und Wissenschaftlern hat das Unternehmen seine Kunden
 nunmehr seit 30 Jahren mit hochentwickelten Lösungen beliefert.
 KLA-Tencor hat seinen Unternehmenshauptsitz in Milpitas, Kalifornien,
 und verfügt über Kundenservicecenter in aller Welt. Weiterführende
 Informationen erhalten Sie auf www.kla-tencor.com. (KLAC-P)
 
 Über AMTC:
 
 Die Advanced Mask Technology Center GmbH & Co. KG (AMTC) ist ein
 Joint Venture von GLOBALFOUNDRIES und Toppan Photomasks. Mit dem AMTC
 ist ein weltweit führendes Zentrum für die Entwicklung und Fertigung
 moderner Photolithographiemasken entstanden. Kontakt: Christiane
 Demmler, Kommunikationsbeauftragte, 0351-4048-102,
 christiane.demmler@amtc-dresden.com. Für weitere Informationen
 besuchen Sie bitte http://www.amtc-dresden.de.
 
 Zukunftsgerichtete Aussagen:
 
 Andere Aussagen in dieser Pressemitteilung als historische Fakten
 wie etwa bezüglich des erwarteten Erfolgs von LMS IPRO5, Trends in
 der Halbleiterindustrie (und die diesbezüglich erwarteten
 Herausforderungen), der prognostizierte Nutzen des LMS IPRO5 für
 KLA-Tencors Kunden sowie die geschätzten Kosten, betrieblichen und
 andere möglichen Vorteile für die Anwender der LMS IPRO5 Anlagen sind
 zukunftsgerichtete Aussagen und unterliegen den durch den Private
 Securities Litigation Reform Act von 1995 in Kraft getretenen Safe
 Harbour-Richtlinien. Diese zukunftsgerichteten Aussagen basieren auf
 aktuellen Informationen und Prognosen und bergen zahlreiche Risiken
 und Unsicherheiten. Die tatsächlichen Ergebnisse können massgeblich
 von den in den Aussagen prognostizierten Resultaten aufgrund einer
 Vielzahl von Faktoren abweichen, wie etwa Verzögerungen im Einsatz
 neuer Technologien , die Einführung ähnlicher Produkte durch andere
 Unternehmen oder unerwartete technologische Herausforderungen oder
 Einschränkungen, die die Implementierung, die Leistung oder den
 Nutzen der Produkte von KLA-Tencor beeinflussen.
 
 
 
 Pressekontakt:
 Ansprechpartner für Investoren, Ed Lockwood, Sr.
 Director,Investorenbeziehungen, +1-408-875-9529,
 ed.lockwood@kla-tencor.com, oderAnsprechpartner für
 Pressemitarbeiter, Meggan Powers, Sr.
 Director,Unternehmenskommunikation, +1-408-875-8733,
 meggan.powers@kla-tencor.com
 
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