OneD Material erreicht neuen Meilenstein
Geschrieben am 08-06-2017 |   
 
 Palo Alto, Kalifornien (ots/PRNewswire) - OneD Material erklärt  
die Erteilung eines neuen japanischen Patents (JP 6142362 (https://st 
atic1.squarespace.com/static/54ac837ee4b041b86b0c054f/t/59389ad73e00b 
e2ed1d3d1d6/1496881905541/JP6142362B.pdf)) für eine neue  
Zusammensetzung und einen verbesserten Herstellungsprozess für  
SiNANOde(TM), seine innovativen Silizium-Graphit-Aktivmaterialien für 
Lithium-Ionen-Batterien mit hoher Dichte. 
 
   Diese neue Patenterteilung ist ein bedeutender Meilenstein auf  
einer langen Reise, die 2001 begann, als Nanosys (OneDs  
Vorläufergesellschaft) gegründet wurde und sich die exklusiven  
Lizenzrechte für bestimmte grundlegende Nanotechnologieerfindungen  
von den Universitäten Harvard und Berkeley sicherte. 
 
   In den Folgejahren arbeitete das F&E-Team von Nanosys an neuen  
Nanostrukturen für Brennstoffzellen und  
Lithium-Ionen-Batterieelektroden und reichte wegweisende  
Patentanmeldungen ein, die gekoppelte Netzwerke aus  
Silizium-Nanodrähten und Graphitmaterialien beschreiben, die bei  
Elektroden Anwendung finden (Beispiel: WO 2006/062947 (https://static 
1.squarespace.com/static/54ac837ee4b041b86b0c054f/t/59389b9737c581791 
6007537/1496882074860/WO2006062947A2.pdf) und WO 2007/061945 (https:/ 
/static1.squarespace.com/static/54ac837ee4b041b86b0c054f/t/59389bab20 
099e3818e68348/1496882100457/WO2007061945A2.pdf) gemäß  
Patentanmeldungen aus 2004 und 2005). 
 
   Unter Leitung von Dr. Yimin Zhu, OneDs Chief Technology Officer,  
wurden mit den Jahren verschiedene Silizium-Graphit-Materialien und  
Prozesse perfektioniert und von großen Batterieherstellern auf der  
ganzen Welt getestet. 
 
   Ende 2013 übernahm OneD Material das F&E-Team, die  
Pilotproduktionslinie sowie sämtliche Schutzrechte in Zusammenhang  
mit Nanodrähten von Nanosys, das sich der Kommerzialisierung von  
Quantenpunkten für Displays zuwendete und dort zum Weltmarktführer  
aufstieg. 
 
   2014 erhielt der OneD-Kunde EaglePicher den Zuschlag des  
US-Verteidigungsministeriums für ein Titel-3-Projekt und lizenzierte  
OneDs Herstellungsprozess zur Produktion von SiNANOde(TM) in einer  
jüngst fertiggestellten, 100.000 Quadratmeter großen Fertigungsanlage 
in Joplin (Missouri). 
 
   OneD arbeitet weiterhin an innovativen Entwicklungen und legt den  
Schwerpunkt seiner F&E-Initiativen auf vier Kernbereiche: (1)  
Steigerung der Retentionskapazität von SiNANOde(TM) über längere  
Zykluszahlen; (2) Steigerung der Energiedichte von SiNANOde(TM) mit  
höheren Silizium-/Graphitanteilen; (3) Senkung der Produktionskosten  
von SiNANOde(TM); sowie (4) Ermöglichung höherer Produktionsmaßstäbe  
zur Unterstützung der zukünftigen Erfordernisse von  
Batterieherstellern, die den Konsumgüterelektronik- und EF-Markt  
beliefern. 
 
   Die neue Patenterteilung gehört zu einem Portfolio von  
Patentanmeldungen der jüngeren Zeit, die auf diese F&E-Anstrengungen  
zurückgehen und OneD und seine Kunden über die nächsten zwei  
Jahrzehnte absichern (siehe zum Beispiel WO 2013/016339 (https://stat 
ic1.squarespace.com/static/54ac837ee4b041b86b0c054f/t/59389c03893fc08 
0a393f29a/1496882183402/WO2013016339.pdf)). 
 
   "Wir freuen uns darauf, auch weiter mit weltweiten Partnern aus  
dem Industriesektor gemeinsam an der Herstellung von  
Silizium-Graphit-Aktivmaterialien für Lithium-Ionen-Batterien mit  
hoher Dichte zu arbeiten", sagte Vincent Pluvinage, CEO von OneD. 
 
   Weitere Informationen finden Sie unter www.onedmaterial.com 
 
 
 
Pressekontakt: 
OneD Material 
650-331-2192 
info@onedmaterial.com 
 
Original-Content von: OneD Material, LLC, übermittelt durch news aktuell
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